一、3D光刻技术介绍
摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
二、3D光刻技术功能介绍
先进的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度,使打印速度z高提升10倍以上;
能够处理高达20000cps的高粘度树脂,从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件;
能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料,包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。
三、微纳3D打印系统打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。
工业级复合聚合物,例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
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3D打印连接器